鼎益科技，鼎益真空 纳米喷镀原料 珠海纳米喷镀

卧式真空镀膜机

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卧式离子镀膜机
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管材镀膜机
钢管镀膜机
磁控溅射镀膜机
中频溅射镀膜机
中频离子镀膜机
离子溅射镀膜机
PVD真空镀膜机
环保真空电镀设备

优势：
?低运营成本和快的生产周期确保的工业标准和竞争力的成本，材料和能源消耗低
?根据客户的生产需求量身定制设计服务
?快速，灵活的生产周期以及灵活，多功能的生产系统，能够以市场上快的周期运行，并配有自动控制系统，纳米喷镀原料，可消除人为错误
?所有操作阶段均由具有自动存档和备份功能的PC进行管理，该PC提供实时报告，系统和周期状态数据，在整个过程中通知和指导操作员设备规格：型号TYWS-3042H真空室尺寸Ф3000×H4200mm真空室机构卧式结构配置抽气系统及水冷系统真空机组机械泵＋罗茨泵＋扩散泵/分子泵＋维持泵真空测量系统一台皮拉尼（MKS）一台冷阴极（MKS）一台薄膜规（MKS）镀膜系统电弧蒸发源、镀膜辅助离子电源充气系统质量流量计电源类型直流电源、中频电源、脉冲电源（偏压电源、弧电源）控制方式手动或全自动极限真空指标5.0x10-4Pa电弧源22台- 28台200A -300A偏压电源60KW/台工作转动方式多轴行星式公自转、变频调速（可控可调）工作烘烤温度常温-至450℃可控可调
真空蒸发镀膜机加工
　　真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，珠海纳米喷镀，把真空室内抽成高真空是必要的。
　　当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，纳米喷镀材料，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有
　　N1/N0= 1- exp(L/λ) (1)
　　在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为
　　λ = 6.65×10-1/pcm (2)
　　由上式计算可知，纳米喷镀加工，在室温下，p=10-2 Pa 时，λ=66.5cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5 cm。
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PVD真空镀膜机
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PVD真空镀膜设备
屏蔽膜真空镀膜机
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功能型真空镀膜设备
磁控蒸发双用镀膜机
PVD磁控溅射镀膜机
EMI屏蔽真空电镀设备
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功能性真空镀膜设备 - 磁控溅射镀膜机 - EMI屏蔽真空镀膜机
设备介绍
电磁干扰(EMI)屏蔽金属器的应用。
其他需要电磁干扰屏蔽功能的行业

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